Rasterelektronenmikroskop
Bei der Rasterelektronenmikroskopie wird mittels eines fokussierten, beschleunigten Elektronenstrahls die Oberfläche einer Probe abgetastet.
Die auf die Probe treffenden Primärelektronen (PE) regen die Atome des Werkstoffes an, aus denen sich Sekundärelektronen (SE) lösen und in die Probenkammer austreten. Diese werden von einem Detektor angezogen und zu einem Bild verarbeitet.
Mittels dieser Methode kann die Topografie der Oberfläche dargestellt werden. EinigeTeile der Primärelektronen werden auch zurückgestreut (Rückstreuelektronen, RE). Je nach Element unterscheidet sich die Zahl der zurückgestreuten Elektronen, so dass auch diese als Bildinformation genutzt werden können. Somit lässt sich ein Elementkontrast in dem Bild erzielen.
Am Lehrstuhl für Werkstoffkunde werden zwei Rasterelektronenmikroskope vom Typ LEO Gemini 982 und FEI Qanta 600 FEG genutzt. Die Geräte arbeiten mit einer Schottky-FE-Kathode und einem Einlinsensystem. Somit kann auch bei einem relativ niedrigen Vakuum die max. 700.000-fache bzw. 1.000.000-fache Vergrößerung realisiert werden.
Beide Geräte sind mit einer leistungsfähigen EDX-Analyse (Energy-Dispersive-Xray analysis) ausgestattet, welche eine ortsauflösende Messung der Elementverteilung in einer Probe gestattet. Darüber hinaus verfügt das Quanta über ein EBSD-System. Mit Hilfe von EBSD (Electron Backscatter Diffraction) kann man die Orientierung von Kristallen an der Objektoberfläche bestimmen.
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Dipl.-Ing. Michael Koster | Dipl.-Ing. Otmar Klag |
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